Retix C Ultra Repair Nano-Mask 1 шт. Професійна маска для післяпроцедурного догляду. Показання: подразнена та почервоніла шкіра. Склад/Дія Завдяки використанню технології нановолокон, що створює тривимірну структуру біоцелюлози, забезпечує дуже високу абсорбцію та активне вивільнення трьох форм гіалуронової кислоти та ектоїну - EctoHyal Complex 3.0. Біоцелюлоза, як матеріал, що використовується в косметології та медицині для регенерації, чудово прилягає до зони обробки, створюючи ефект другої шкіри. Активні компоненти маски заспокоюють, зменшують почервоніння та неприємне відчуття стягнутості. БІСАБОЛОЛ – інгредієнт із сильними протизапальними та заспокійливими властивостями. Прискорює процес загоєння та заспокоює роздратовану та чутливу шкіру. ECTOHYAL COMPLEX 3.0 - це поєднання унікальних властивостей ектоїну та трьох форм гіалуронової кислоти для оптимального, багаторівневого зволоження та заспокоєння подразнень шкіри. Ектоїн захищає шкіру від фотостаріння, зміцнює бар’єрну функцію та підтримує функції відновлення, а також є інгредієнтом із доведеними властивостями проти старіння. Використання: маску потрібно обережно вийняти із захисної упаковки, потім розгорнути та видалити синій шар. Нанесіть маску на обличчя так, щоб вона ідеально прилягала до шкіри. Залиште на шкірі приблизно на 20 хвилин, потім зніміть маску та втирайте надлишки продукту масажними рухами. Запобіжні заходи: Використовувати відразу після відкриття. Зберігати в недоступному для дітей місці. INCI Aqua (вода), гліцерин, пропіленгліколь, поліакрилат-13, поліізобутен, естоїн, п-анісова кислота, хлорфенезин, гіалуронат натрію, молочна кислота, гідроксид натрію, бісаболол, полісорбат 20, 0-цимен-5-ол, сорбітан ізостеарат, натрій Фітат, етилгексилпальмітат, тригідроксистеарин. Продукт пр